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河南順博熱處理設備有限公司


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  • 三溫區cvd實驗室設備

    詳細摘要: 三溫區PECVD實驗室設備由單溫區管式爐、真空系統、質子流量計、射頻電源系統系統組成PECVD設備是借助于光放電等方法產生等離子體

    產品型號:S-1700PC所在地:更新時間:2023-03-16 在線留言

  • 雙溫區CVD實驗室設備

    詳細摘要: 雙溫區PECVD實驗室設備由滑動式快速退火管式爐+真空系統+供氣系統組成,溫度可以達到1400度,極限真空可以達到10-3Pa,供氣系統是流量調節可以是質子流量...

    產品型號:S-1400PC所在地:更新時間:2023-03-16 在線留言

  • 石墨烯管式爐(石墨烯CVD爐)

    詳細摘要: 管式爐+真空系統+供氣系統+水冷系統組成,溫度可以達到1200度,可以是單溫區、雙溫區、三溫區等,極限真空可以達到10-3Pa

    產品型號:S-1200PC所在地:更新時間:2023-03-16 在線留言

  • CVD浮子混氣系統

    詳細摘要: CVD浮子混氣系統適用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備,生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用

    產品型號:S-1700S-CVD所在地:更新時間:2023-03-16 在線留言

  • 混合氣體化學氣相沉積CVD系統

    詳細摘要: 混合氣體化學氣相沉積CVD系統由高溫管式爐,真空壓強控制系統,多通道高精度數字質量流量控制系統,過壓保護及冷凝等部分組成,可實現真空達0.1mbar混合氣體化學...

    產品型號:S-1200S-CVD所在地:更新時間:2023-03-16 在線留言

  • 滑式真空爐CVD系統

    詳細摘要: 滑式真空爐CVD系統由滑動式開啟式真空管式爐,混氣系統,真空及壓力系統等組成。此系統燒結溫度可達1200℃,通過滑動爐體來實現快速的升降溫

    產品型號:S-1200HZ-CVD所在地:更新時間:2023-03-16 在線留言

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